IC光刻設(shè)備、FPD曝光設(shè)備中用到的光學(xué)元件

在IC半導(dǎo)體光刻設(shè)備和FPD平面顯示器曝光設(shè)備中，對精密光學(xué)薄膜器件有著極為苛刻的要求，尤其是對光學(xué)鏡面精度、光譜反射效率和耐用性等方面。這些要求主要是為了確保設(shè)備在長時間不間斷工作的情況下，能夠保持高性能、高精度的光學(xué)表現(xiàn)。

歐特光學(xué)制造的精密紫外光學(xué)薄膜器件主要包括：

大尺寸橢球反射鏡

作用： 用于調(diào)整和聚焦光線，確保在光刻設(shè)備中得到的曝光。

要求： 對光學(xué)鏡面精度和耐用性有極高的要求，以保持曝光的準確性。

45°平面反射鏡

作用： 用于反射光線的方向，確保光線能夠準確照射到目標區(qū)域。

要求： 對反射效率和光譜性能有嚴格的要求，以確保光學(xué)系統(tǒng)的穩(wěn)定性。

介質(zhì)膜反射鏡

作用： 用于調(diào)整和分散光線，以滿足設(shè)備對光學(xué)性能的特殊需求。

要求： 需要高精度的光學(xué)表面和卓越的耐用性。

鋁增強反射鏡

作用： 提供高反射效率，用于優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)的性能。

要求： 對反射效率和耐久性有嚴格要求，特別是在長時間紫外線輻射下的穩(wěn)定性。

365nm通帶濾光片、截止濾光片、分色鏡：

作用： 用于優(yōu)化光源的波長分布，滿足特定的曝光需求。

要求： 對光譜性能和耐久性有極高的要求，特別是在紫外線條件下的長時間使用。

這些精密紫外光學(xué)薄膜器件的制造采用高能離子輔助沉積工藝，以確保其耐受高溫（400℃以上）且性能穩(wěn)定。這些器件在光學(xué)系統(tǒng)中的應(yīng)用有助于確保設(shè)備的高性能和長期穩(wěn)定運行。